光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。
光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像极其清晰，无需印泥，即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美，是目前最好的、最先进的印章产品，美观耐用，无须印台。（一次注油可印1000次以上，并可反复注油。）
光敏技术指的是利用光敏材料的感光特性进行印章制作的方法。专用的光敏材料是一种超微泡材料，其表面的微孔孔径非常小，平均孔径小于30微米。本身具有储油渗油及光闪熔特性。光敏材料在受到强光照射的时候，可以吸收光能并转换成热能，颜色越暗吸收的能量越多。
曝光时，光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光能后，温度迅速上升并达到熔点，闪光结束后，表面熔体的温度迅速降低，形成一定厚度和强度的薄膜，这层薄膜同时起到封孔闭孔的作用，并隔绝印油的渗透。这就是光敏章成像的原理！
曝光时，光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光能后，温度迅速上升并达到熔点，闪光结束后，表面熔体的温度迅速降低，形成一定厚度和强度的薄膜，这层薄膜同时起到封孔闭孔的作用，并隔绝印油的渗透。这就是光敏章成像的原理！
由于激光打印机的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔结构，因此，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章或其它技术方式制作的印章的盖印精度高出许多，是目前印章制作精度最高的一种印章。光敏印章具有制作方便快捷（即订即做、即取），印面不收缩，不变形，清晰不扩散，印油持久不褪色，连续使用等优点。 | 
